Картотека книг » Поиск по коду » Книги с ISBN13 9783659199820
На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.
Книга ISBN13 9783659199820 - Chemical Vapor Deposition of Copper and Copper Oxides (Jorge Ramirez-Ortiz) в магазинах, библиотеках и электронных библиотеках с он-лайн чтением
Информация о местонахождении книг с указанным кодом ISBN. (Найти нужный код ISBN10 или ISBN13 можно в техническом каталоге кодов.)На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.
Где купить эту книгу?
Интернет-магазиныНазвание: Chemical Vapor Deposition of Copper and Copper Oxides
Chemical vapor deposition (CVD) is a very versatile process widely used in the production of thin solid films and surface coating. It is also used to produce powders, fibers and monolithic components. In addition, the majority of chemical elements in the periodic table has been deposited, as well as compounds such as carbides, nitrides, oxides, intermetallic and many others. Chemical vapor deposition has been a critical technology in silicon microelectronics processes, fabrication of thin films of metals, semiconductors, and insulators. With increasing packing density in microelectronic devices, copper is used as an interconnecting metal due to its superior electrical conductivity and excellent resistance against electromigration. One of the advantages of chemcial vapor deposition is that selective deposition onto one surface, often defined as the growth surface, in the presence of another surface, often defined as non-growth surface is possible. The high optical absorption...
Авторы: Jorge Ramirez-Ortiz
Издательство: LAP Lambert Academic Publishing
Год: 2012
Местонахождение: OZON.ru
ISBN: 9783659199820
Поиск по сайту
Новости
10 января 2015 года: Запуск базы ISBN10 и ISBN13Запущена база данных ISBN и технический каталог кодов.
2015 - books.kartoteka.net
e-mail: books@kartoteka.net
e-mail: books@kartoteka.net