Картотека книг

предварительная версия
Картотека книг » Поиск по коду » Книги с ISBN13 9783659208232

Книга ISBN13 9783659208232 - Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films (Cagla Ozgit-Akgun) в магазинах, библиотеках и электронных библиотеках с он-лайн чтением

Информация о местонахождении книг с указанным кодом ISBN. (Найти нужный код ISBN10 или ISBN13 можно в техническом каталоге кодов.)

На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.

Где купить эту книгу?

Интернет-магазины

Название: Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films
III-nitride compound semiconductors (AlN, GaN, InN) and their alloys have emerged as versatile and high-performance materials for a wide range of electronic and optoelectronic device applications. Although high quality III-nitride thin films can be grown at high temperatures (>1000 °C) with significant rates, deposition of these films on temperature-sensitive device layers and substrates necessitates the adaptation of low-temperature methods such as atomic layer deposition (ALD). When compared to other low-temperature thin film deposition techniques, ALD stands out with its self-limiting growth mechanism, which enables the deposition of highly uniform and conformal thin films with sub-angstrom thickness control. These unique characteristics make ALD a powerful method especially for depositing films on nanostructured templates, as well as preparing alloy thin films with well-defined compositions. This monograph reports on the development of low-temperature (?200 °C) plasma-assisted ALD...
Авторы: Cagla Ozgit-Akgun
Издательство: LAP Lambert Academic Publishing
Год: 2014
Местонахождение: OZON.ru
ISBN: 9783659208232


Поиск по сайту


Новости

10 января 2015 года: Запуск базы ISBN10 и ISBN13

Запущена база данных ISBN и технический каталог кодов.