Картотека книг

предварительная версия
Картотека книг » Поиск по коду » Книги с ISBN13 9783838333885

Книга ISBN13 9783838333885 - Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application (Harish Bhandari) в магазинах, библиотеках и электронных библиотеках с он-лайн чтением

Информация о местонахождении книг с указанным кодом ISBN. (Найти нужный код ISBN10 или ISBN13 можно в техническом каталоге кодов.)

На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.

Где купить эту книгу?

Интернет-магазины

Название: Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application
Novel materials with high-dielectric(k) constants are rapidly gaining attention for their application as gate insulator for future MOS transistors. This book provides the basic principles underlying chemical vapor deposition (CVD) of hafnium oxide and hafnium silicate thin films for high-k application. In addition to the deposition fundamentals, the discussions in the book provide valuable insights to various chemical and physical characterization techniques that can be applied to thin films in general. This easy-to-understand and well- illustrated text is designed for both beginners as well as advanced researchers with a good introduction to the subject of high-k thin films.
Авторы: Harish Bhandari
Издательство: LAP Lambert Academic Publishing
Год: 2010
Местонахождение: OZON.ru
ISBN: 9783838333885


Поиск по сайту


Новости

10 января 2015 года: Запуск базы ISBN10 и ISBN13

Запущена база данных ISBN и технический каталог кодов.