Картотека книг » Поиск по коду » Книги с ISBN13 9783846538418
На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.
Книга ISBN13 9783846538418 - Characteristics of SiOxNy Thin Films (Mahira Ismael) в магазинах, библиотеках и электронных библиотеках с он-лайн чтением
Информация о местонахождении книг с указанным кодом ISBN. (Найти нужный код ISBN10 или ISBN13 можно в техническом каталоге кодов.)На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.
Где купить эту книгу?
Интернет-магазиныНазвание: Characteristics of SiOxNy Thin Films
Different films of silicon oxynitride (SiOxNy) were grown using a glass-assisted CO2 laser technique. The samples were prepared on P- type silicon substrates (111) at temperatures from (750, 800, 850 oC) using two different gases of NH3 and O2 as the source of nitrogen and oxygen in open air. Fourier Transform Infrared (FTIR) Spectroscopy, Reflectometry, Spectroscopic Ellipsometry and C-V measurements were used for films characterization. FTIR spectra shows a strong stretching bond of Si-N at wave number range from (700-1000 cm-1) depending on the films composition, and Si-O stretching bond at wave number around (1088 cm1). The peak position and the corresponding full width at half maxima (FWHM) for Si-O stretching bond have been also analyzed. The Reflectometry was used to measure the refractive index which is equal to 1.66 for SiOxNy film growing at 750 oC. It was found that the samples are non uniform in their thickness (16-142 nm) and the refractive index of the films is graded...
Авторы: Mahira Ismael
Издательство: LAP Lambert Academic Publishing
Год: 2011
Местонахождение: OZON.ru
ISBN: 9783846538418
Поиск по сайту
Новости
10 января 2015 года: Запуск базы ISBN10 и ISBN13Запущена база данных ISBN и технический каталог кодов.
2015 - books.kartoteka.net
e-mail: books@kartoteka.net
e-mail: books@kartoteka.net