Картотека книг

предварительная версия
Картотека книг » Поиск по коду » Книги с ISBN13 9785948362229

Книга ISBN13 9785948362229 - Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии (Берлин, Евгений Владимирович, Сейдман, Лев Александрович) в магазинах, библиотеках и электронных библиотеках с он-лайн чтением

Информация о местонахождении книг с указанным кодом ISBN. (Найти нужный код ISBN10 или ISBN13 можно в техническом каталоге кодов.)

На странице указаны адреса интернет-магазинов и библиотек (обычных) в которых есть книга с данным кодом.

Где купить эту книгу?

Интернет-магазины

Название: Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено...
Авторы: Берлин Е.В.
Издательство: Техносфера
Год: 2010
Местонахождение: My-shop.ru
ISBN: 978-5-94836-222-9

Где читать эту книгу?

Российские библиотеки и не только

Название: Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Авторы: Берлин Е.В., Сейдман Л.А.
Издательство: Москва: Техносфера
Год: 2010
Местонахождение: Научная библиотека НИЯУ МИФИ
ISBN: 978-5-94836-222-9
Название: Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения.
Авторы: Берлин Е. В., Сейдман Л. А.
Издательство: М.: Техносфера
Год: 2010
Местонахождение: Научно-техническая библиотека Саратовского Государственного Технического Университета им. Ю.А.Гагарина
ISBN: 978-5-94836-222-9
Название: Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Авторы: Берлин, Евгений Владимирович, Сейдман, Лев Александрович
Издательство: Москва: Техносфера
Год: 2010
Местонахождение: Центральная Научная Библиотека Красноярского Научного Центра СО РАН
ISBN: 978-5-94836-222-9


Поиск по сайту


Новости

10 января 2015 года: Запуск базы ISBN10 и ISBN13

Запущена база данных ISBN и технический каталог кодов.